一、前言
    自二十年代用硫酸做鍍鉻催化劑并實現(xiàn)工業(yè)化以來，這種叫做標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻工藝一直沿用至今。該鍍鉻工藝的缺點是電流效率低，僅為13%左右，即在鍍鉻過程中有87%左右的電能是被浪費的。電鍍工作者歷經(jīng)努力，想克服這一弊病，于四十年代末期曾研制成第二代催化劑—氟化物，出現(xiàn)過所謂“復(fù)合鍍鉻"液，這種鍍鉻液的電流效率zui高可達(dá)25%，而且對鍍層的光亮度和硬度都有所提高；可是這種鍍液會造成低電流處鍍件和陽極鉛板腐蝕，而且鍍液對雜質(zhì)比較敏感，因而人們只得走標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻的老路。

   近幾年，國內(nèi)在推廣的稀土添加劑雖也有較高的電流效率，但因其含氟，對陽極鉛板和鍍件的不鍍部位會造成腐蝕，所以仍不適宜鍍硬鉻。

   3HC-25是鍍鉻第三代添加劑，也是世界上一代鍍鉻催化劑。

二、特點
   1、不含氟元素，所以對陽極鉛板和鍍件不鍍部位不會產(chǎn)生腐蝕作用。
   2、陰極電流效率高，可達(dá)到22%～27%左右，這樣可節(jié)約用電一半左右。
   3、光亮電流密度范圍寬，鍍層結(jié)晶細(xì)致光亮。
   4、沉積速度快，因為可以采用較高的電流密度和有較高的電流效率，故沉積速度可達(dá)1～1.5µm/分鐘。
   5、深鍍能力好，優(yōu)于標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻。
   6、鍍層硬度高，可達(dá)HV1000以上。
   7、鍍液穩(wěn)定，抗雜質(zhì)性強，易于操作維護(hù)。
   8、鍍層呈微裂紋，微裂紋數(shù)可達(dá)500～1000條，如用于裝飾性鍍鉻，則可大大提高其防腐性能。
   9、鍍層中沒有三價鉻也能電鍍，所以新配槽液不必長時間電解處理。

三、配方和操作條件

              
四、說明
   1、陽極可用含銻6%的鉛銻合金板，或含錫8%的鉛錫合金板。
   2、鍍液要用去離子水或蒸餾水配制，配制方法同普通鍍鉻液。
   3、鉻酐與硫酸的比率為100:1～1.1。
   4、如用作裝飾性鍍鉻，則鍍液溫度為38～45℃，DK為15～25A/dm²。
   5、3HC-25添加劑的平時補加量為2～4mL/KAH，一般補充100Kg鉻酐時加入3Kg添加劑。
   6、普通鍍鉻液要轉(zhuǎn)化為高效鍍鉻液，一般只要加入3HC-25添加劑8mL/L即可。添加稀土含氟的鍍鉻液不宜轉(zhuǎn)換。

五、產(chǎn)品包裝
    10Kg或30Kg塑桶裝