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行業(yè)產(chǎn)品

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盛美半導體設備（上海）股份有限公司


PECVD設備

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具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地上海市

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更新時間：2023-08-11 23:16:26瀏覽次數(shù)：285次

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經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：15條

所在地區(qū)：上海上海市

產(chǎn)品簡介

盛美上海的等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備可應用于SiO2, SiNx, Carbon，NDC薄膜沉積工藝， 未來可以擴展至單片式PEALD薄膜沉積工藝進行平臺化擴展。

詳細介紹

PECVD設備

  

主要優(yōu)勢

配置了具有自主知識產(chǎn)權(quán)的腔體設計和單腔體多加熱盤布局

配置了特殊的氣體分配裝置和卡盤設計

針對薄膜疊層的變換可以提供更好的薄膜均勻性，更優(yōu)的薄膜應力和更少的顆粒特性

兼顧高產(chǎn)能要求每個腔體都安裝有多個加熱盤

靈活配置腔體數(shù)量兼顧不同產(chǎn)能要求

自主開發(fā)的控制軟件能夠靈活配置滿足相應需求

設計的真空機械手臂匹配腔體多加熱盤晶圓存取規(guī)則

工藝溫度兼容200C到650C的各種PECVD沉積薄膜要求


特性和規(guī)格

可適用于300mm晶圓各種薄膜沉積需求

該設備采用單腔體模塊化設計，有兩種配置：
　　　　一種是可配置一至三腔體模塊，適用于沉積比較薄的薄膜兼顧產(chǎn)能大小
　　　　一種是可配置四至五腔體模塊，適用于沉積比較厚的薄膜兼容長臂真空機械手臂

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