盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司
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廠商性質(zhì)其他
所 在 地上海市
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更新時間：2023-08-07 12:30:53瀏覽次數(shù)：159次
聯(lián)系我時，請告知來自 百分零部件網(wǎng)盛美的高溫硫酸清洗設(shè)備Tahoe將槽式模塊和單片清洗模塊集成于同一設(shè)備中，以實現(xiàn)高效的清洗性能，并且其硫酸使用量只有傳統(tǒng)SPM單片清洗設(shè)備的10%甚至更少。該設(shè)備可以廣泛應(yīng)用于*集成電路制造領(lǐng)域。
槽式SPM清洗模塊與單片清洗腔體相結(jié)合來進行去膠工藝。SPM的壽命可通過使用時間和工藝片數(shù)來控制?，F(xiàn)階段，SPM的使用量跟單片高溫清洗設(shè)備相比能減少80%以上。
單片晶圓腔體內(nèi)可配置通用藥液比如DHF,SC1,SC2和O3。可按要求配置噴嘴和/或者兆聲波清洗來提高去除顆粒污染物的效率。
工藝的順序可靈活設(shè)置，該設(shè)備可按照不同的產(chǎn)品需求進行槽式清洗工藝或者只進行單片清洗工藝。
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