東莞東歐真空設(shè)備有限公司
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更新時(shí)間：2025-01-09 09:00:56瀏覽次數(shù)：次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 百分零部件網(wǎng)iXH干式工業(yè)級(jí)真空泵系統(tǒng)iXH系列干泵產(chǎn)品是Edwards的市場(chǎng)iH產(chǎn)品的換代升級(jí)，為嚴(yán)苛制程能力樹立了新標(biāo)準(zhǔn)，它在世界上的許多300mm半導(dǎo)體和平板工廠內(nèi)通過(guò)提高制程可靠性實(shí)現(xiàn)低擁有成本
iXH 干式工業(yè)級(jí)真空泵系統(tǒng)
iXH 系列干泵產(chǎn)品是 Edwards 的市場(chǎng) iH 產(chǎn)品的換代升級(jí)，為嚴(yán)苛制程能力 樹立了新標(biāo)準(zhǔn)，它在世界上的許多 300mm 半導(dǎo)體和平板 工廠內(nèi)通過(guò)提高制程可靠性實(shí)現(xiàn)低擁有成本。
可滿足 FPD、太陽(yáng)能、 半導(dǎo)體和 LED 制造業(yè)中日益提高的氣體流量要求的 大容量干泵和增壓泵系列。 除了具有高峰值抽取速度外，這些泵還配備多種特性 以確保在嚴(yán)苛制程中具有可靠性。
iXH 泵采用模塊化設(shè)計(jì)，符合 當(dāng)今的制程要求，并且對(duì)于前沿工廠中不斷涌現(xiàn)的應(yīng)用挑戰(zhàn) 有著路線明確的應(yīng)對(duì)計(jì)劃。
應(yīng)用
半導(dǎo)體的目標(biāo)應(yīng)用包括：
PECVD
高 K
低 K
SACVD
LPCVD
ALD
EPI
FPD 的目標(biāo)應(yīng)用包括：
PECVD
TCO
刻蝕
傳輸腔
主要特性和優(yōu)勢(shì)
針對(duì)的 EPI 和太陽(yáng)能制程大幅提高了氫氣抽取速度。
大容量干泵和 增壓泵提供擴(kuò)展的制程窗口以提高產(chǎn)量。
占地面積更小，高度更低，便于在任何工廠中安裝。
符合主要的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，包括 UL、CE 和 S2?？梢允冀K如一地使用或省略不用。
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