精密研磨拋光系統(tǒng)設(shè)計科學(xué)、性能、自動化程度高、操作方便、可靠性與維護性強。整機防腐，獨立可移動式觸摸操控系統(tǒng)；多通道進料系統(tǒng)；數(shù)字厚度監(jiān)測裝置，實時監(jiān)測去除量；工藝參數(shù)存儲以及定時功能；配有工作位升級預(yù)留接口。

詳細(xì)介紹

• GNAD400S系列精密拋光系統(tǒng)獨立操控系統(tǒng)，整機防腐。
• 主機所有參數(shù)均可在觸摸操控系統(tǒng)上進行設(shè)定，可選擇無線或有線方式控制主機。
• 夾具配備數(shù)字厚度監(jiān)測裝置；并配有獨立驅(qū)動系統(tǒng)，且擺動速度和擺動幅度可以調(diào)節(jié)。
• 晶圓樣品通過抽真空的方式吸附在夾具底面，并可以根據(jù)用戶工藝要求定制各種角度附件等非標(biāo)夾具附件，并實現(xiàn)對非標(biāo)形狀樣品的拋光及角度拋光。
• 研磨拋光盤轉(zhuǎn)速可以調(diào)節(jié)，且更換方便，大幅縮短工藝時間。
• 多通道進料系統(tǒng)，工作時料桶具有在線攪拌功能，并且滴料速度可以精確控制。
• 在線實時磨拋盤溫控及冷卻選配功能，盤溫接近預(yù)設(shè)溫度警戒值，設(shè)備會自動啟動冷卻功能，保持磨拋盤在工藝要求的溫度范圍內(nèi)運轉(zhuǎn)工作。
• 磨拋盤自動沖洗選配功能，可實時在線沖洗磨拋工作區(qū)域。并且流速，清洗時間等參數(shù)可精確數(shù)控。
• 設(shè)備定時功能，預(yù)設(shè)時間0-10小時。預(yù)設(shè)時間達到，設(shè)備自動停機。

適用的材料包括：
• 硅基材料（Si，a-Si，poly Si）
• III-V材料（GaAs、InP、GaSb等）
• 第三代半導(dǎo)體材料（SiC、GaN 等）
• 紅外材料（CZT、MCT等）
• 光電材料（LiNbO?、LiTaO?、SiO?等）
• 金屬材料（Au、Cu、Al、Mo、TC4等）
應(yīng)用的范圍包括:
• MEMS
• 半導(dǎo)體器件
• 半導(dǎo)體襯底
• 封裝

項目	參數(shù)
電源:	220-240v 10A 110v 10A 50-60HZ
環(huán)境溫度:	20°C ± 5°C
環(huán)境濕度:	<>
晶圓尺寸:	4” x 1/2/3 6” x 1/2 8” x 1
工作盤直徑:	300mm / 420mm/ 500mm / 520mm
擺臂驅(qū)動轉(zhuǎn)速:	0-100rpm / 0-120rpm/ 0-500rpm
盤轉(zhuǎn)速:	0-100rpm / 0-120rpm
定時時間:	0-10小時
進料通道:	≥ 2

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