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二流體表面處理設備

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更新時間：2024-06-09 08:50:47瀏覽次數(shù)：79次

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產(chǎn)品簡介

1、清洗流程：二流體清洗(可分段設置)-離心干燥;2、配備除靜電離子風系統(tǒng);3、整體不銹鋼鏡面機身堅固耐用，耐酸性、堿性等清洗液;4、高速離心脫水，工件表面無水痕殘留;

詳細介紹

產(chǎn)品特點

1、清洗流程：二流體清洗(可分段設置)-離心干燥;

2、配備除靜電離子風系統(tǒng);

3、整體不銹鋼鏡面機身堅固耐用，耐酸性、堿性等清洗液;

4、高速離心脫水，工件表面無水痕殘留;

應用案例

專用于清洗切割后之晶片(Wafer)或玻璃片表面微塵

產(chǎn)品參數(shù)

名稱/Name 二流體清洗機
型號/Model TS-08KL
電源/Power Supply AC 380 V/50 Hz，20 A
主軸轉速/Spindle Speed 400-2800 r/min
清洗水壓力/Wash Water Pressure 0.2-0.35 MPa
壓縮空氣壓力/CDA Pressure 0.5±0.01 MPa

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