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高精密平面拋光設(shè)備

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更新時間：2023-11-03 11:55:44瀏覽次數(shù)：243次

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產(chǎn)品簡介

高精密平面拋光設(shè)備

詳細介紹

設(shè)備用途 
廣泛應(yīng)用于大型模具、手機面板、手機外殼、各種LOGO、大型玻璃、導(dǎo)光板，陶瓷板、閥片、五金零部件等平面拋光。

設(shè)備原理 
1、本研磨為精密拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于拋光盤上，拋光盤逆時鐘轉(zhuǎn)動，轉(zhuǎn)速可控，加壓氣缸對工件施壓或砝碼加壓，工件與拋光盤作相對運轉(zhuǎn)磨擦，來達到拋光目的。

2、此設(shè)備配合高精密平面拋光機使拋光盤平整度達到±0.003mm，確保高精密零部件加工的穩(wěn)定性，大大節(jié)省時間。

設(shè)備特點 
1、系列拋光機工件加壓采用氣缸加壓或砝碼加壓的方式，壓力可調(diào)； 

2、系列拋光機采用按鈕控制或PLC程控，速度可調(diào)，操作方便。

3、研磨拋光機采用自動滴液系統(tǒng)，滴液速度可調(diào)，流速均勻，方便控制成本。 

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