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北京艾姆希半導(dǎo)體科技有限公司


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CPI-400 純化學(xué)拋光機(jī)

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品       牌

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更新時(shí)間：2024-10-11 09:40:55瀏覽次數(shù)：62次

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所在地區(qū)：北京北京市

產(chǎn)品簡介

CPI系列純化學(xué)拋光設(shè)備由強(qiáng)防腐蝕材料構(gòu)成，適用于腐蝕拋光溶劑，如溴甲醇，過氧化氫或酸腐蝕劑等。實(shí)現(xiàn)無劃痕、無橘皮效應(yīng)的高質(zhì)量表面拋光。

詳細(xì)介紹

  • ● 幾乎為零的機(jī)械作用力，實(shí)現(xiàn)無劃痕、無橘皮效應(yīng)的高質(zhì)量表面拋光。
    ● 防腐材料，由聚丙烯，涂PVDF和環(huán)氧的聚亞安酯制成，可適用于多種侵蝕劑液，如溴-甲醇等。
    ● 夾具配有定位槽選配功能，確保樣品穩(wěn)定性和一致性。

     
  • ● 加工樣品尺寸（3×4＂），（2×3＂和1×4＂），（1×3＂和2×4＂），（3×3＂和3×4＂）等多種尺寸組合可根據(jù)用戶工藝要求定制。
    ● 滴液速度、磨盤轉(zhuǎn)速可設(shè)置，盤速0-120rpm，操作方便。
  • ● 時(shí)間從0到10個(gè)小時(shí)自由調(diào)節(jié)，到達(dá)設(shè)定時(shí)間時(shí)，設(shè)備可以設(shè)置繼續(xù)運(yùn)行，也可以設(shè)置成自動(dòng)停止。
    ● 半導(dǎo)體晶片和光晶體的高精度腐蝕拋光，并提供晶體最小應(yīng)力的解決方案。
  • • 用于紅外探測和其它器件的碲鋅鎘，碲鎘汞，銻化銦，銻化鎵等。
    • 用于薄脆的半導(dǎo)體材料，如砷化鎵，磷化銦和多種Ⅲ-Ⅴ族,Ⅱ-Ⅵ族化合物等。
    • 用于所有需要電子/光學(xué)級拋光的高標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用，如硫化鎘及類似的光電材料。
  • 應(yīng)用的范圍包括:
    • MEMS
    • 半導(dǎo)體器件
    • 半導(dǎo)體襯底
    • 封裝
項(xiàng)目 參數(shù)
電源: 220-240v 10A
110v 10A
50-60HZ
環(huán)境溫度: 20℃±5℃
環(huán)境濕度: < 80%="">
晶圓尺寸: ≤112mm
工作盤直徑: 355mm/406mm
盤轉(zhuǎn)速: 0-120rpm
定時(shí)時(shí)間: 0-10小時(shí)
進(jìn)料通道: ≥2

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