當前位置：北京艾姆希半導體科技有限公司>>CMP設備>>CDP800 精密CMP設備

CDP800 精密CMP設備

返回列表頁

參考價

面議

具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號

品牌

廠商性質其他

所在地北京市

在線詢價收藏產品查看聯(lián)系電話

百分零部件網采購部電話：0571-88918531QQ:2568841715

聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式

更新時間：2024-10-11 09:34:09瀏覽次數：28次

聯(lián)系我時，請告知來自百分零部件網

產品分類 品牌分類

  CMP設備

全部產品列表

暫無信息

北京艾姆希半導體科技有限公司

經營模式：其他

商鋪產品：33條

所在地區(qū)：北京北京市

詢價 給他留言

產品簡介

作為晶圓制造的關鍵制程工藝之一，化學機械拋光(CMP)是通過化學腐蝕與機械研磨的協(xié)同配合作用，實現(xiàn)晶圓表面多余材料的高效去除與全局納米級平坦化。盤溫實時監(jiān)測，自動冷卻功能氣缸加壓功能終點檢測功能

詳細介紹

• 主機及所有的零備件均采用高防腐蝕材料，整機防腐，適用于多種半導體材料的化學機械拋光。
• 系統(tǒng)配置觸摸屏控制面板，所有功能參數均可在控制面板上設置?？刂泼姘逯糜诠ぷ鲄^(qū)域外部，采用可移動方式，不僅可以調節(jié)面板位置間距和角度，還可以前后左右移動控制面板位置。這一設計不僅避免磨拋液濺入到面板上，造成操作系統(tǒng)腐蝕；也適應于不同操作人員使用習慣。
• CMP 拋光過程中通過對拋光狀態(tài)的分析，最終實現(xiàn)終點檢測功能，即使晶圓到達的厚度后，拋光盤停止轉動，實現(xiàn)對晶圓最終厚度的精準控制，多用于除層平坦化等工藝。
• 終點檢測系統(tǒng)/EPD 可以在拋光過程中進行實時監(jiān)控，而無需在拋光過程中停下進行測量。終點檢測系統(tǒng)在處理過程中監(jiān)控設備主機各主要參數。當設備成功達到期望的終點值時，蜂鳴聲就會響起，EPD系統(tǒng)會自動中止平坦化操作。另外，終點檢測系統(tǒng)可以用做一個安全裝置，一旦所監(jiān)控的工藝參數被檢測到有變化，EPD就會觸發(fā)警報以防止過拋。
• 在平坦化及除層操作中任何相對于預設工藝參數的偏離都會導致程序中斷?？刂泼姘鍟詣訉⑦^程跳到拋光步，將裝有晶片/IC 的拋光頭從拋光墊上升起，以防止停留在拋光墊上發(fā)生任何不必要的損傷。
• CDP800 系列通過自動化參數控制及的材料處理多功能性的組合，CDP 自動化拋光機提供可重復性在納米量級的精度，用于當前器件制造的很多材料的處理。由于它的精確性，低成本和易使用性，CDP 系列自動化拋光機給 CMP 應用提供了理想的環(huán)境。
• 觸摸屏程序化的操作面板里可以存儲相互獨立的材料處理程序?？梢赃x擇增加至 50 組以上。自動化，可重復，集成電路的平坦化和延緩化，多個和單獨的模具和晶片，這些都可以通過控制屏設定來實現(xiàn)。
• CDP800 的夾具可用于8 英寸晶片和模具頭，一旦晶片被附到拋光頭上，壓力負載可以輕松的通過觸摸屏設定。這樣可以保證在晶片表面上拋光的平滑程度，最終實現(xiàn) CMP 工藝加工。

適用的材料包括：
• 硅基材料（Si，a-Si，poly Si）
• III-V材料（GaAs、InP、GaSb等）
• 第三代半導體材料（SiC、GaN 等）
• 紅外材料（CZT、MCT等）
• 光電材料（LiNbO?、LiTaO?、SiO?等）
• 金屬材料（Au、Cu、Al、Mo、TC4等）
應用的范圍包括:
• MEMS
• 半導體器件
• 半導體襯底
• 封裝

項目	參數
電源:	220-240v 10A
環(huán)境溫度:	20°C ± 5°C
環(huán)境濕度:	<>
晶圓尺寸:	8”/ 200mm
工作盤直徑:	780mm
擺臂驅動轉速:	0-90rpm
盤轉速:	0-120rpm
定時時間:	0-10小時
進料通道:	≥ 2