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技術(shù)文章

等離子清洗設(shè)備能否去除表面污漬

閱讀:38發(fā)布時(shí)間:2024-10-10


  等離子清洗設(shè)備是一種“干式"清潔加工工藝,因此,在加工處理后,原料可以直接進(jìn)行下一階段的生產(chǎn)加工,因此等離子清洗是一個(gè)比較穩(wěn)定而有效的加工流程。利用等離子清洗機(jī)的效率,可將原料表面的有機(jī)污染物從原料表面除去,并有效地去除任何影響粘連的雜物,從而使原料表面達(dá)到噴涂工藝要求的較佳標(biāo)準(zhǔn)。


  按生產(chǎn)工藝要求,采用等離子清洗機(jī)進(jìn)行表面清潔處理,不會(huì)對(duì)表面造成機(jī)械損傷,不需要有機(jī)化學(xué)溶液的環(huán)境保護(hù)、節(jié)能處理工藝、脫膜劑、添加劑、增粘劑或其它由氮、氧化合物組成的表面污染源清除。


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  在低溫等離子清洗機(jī)作用下,難粘材料表面出現(xiàn)部分活性原子、自由基和不飽和鍵,這些活性基團(tuán)與低溫等離子體中的活性粒子接觸會(huì)反應(yīng)生成新的活性基團(tuán)。低溫處理僅為40-60℃。既能滿足材料工藝要求,又不會(huì)對(duì)材料表面造成損傷。



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