無錫吉致電子科技有限公司25年研發(fā)生產——TSV CMP CU Slurry/TSV銅化學機械拋光液/半導體cmp拋光液slurry/TSV Cu Slurry/銅拋光液/TSV硅通孔拋光液/TSV CU 拋光漿料
TSV硅通孔的作用: 提高集成度、降低功耗系統(tǒng)地集成數(shù)字電路、模擬電路。通過銅、鎢、多晶硅等導電物質的填充實現(xiàn)硅通孔的垂直電氣互連,用于3D封裝TSV阻擋層化學機械拋光液。
吉致電子JEEZ用于3D封裝TSV化學機械拋光液:
可定制選擇穩(wěn)定的選擇比,去除速率,對氧化物/氮化物的選擇比。硅精拋液系列具有低缺陷的優(yōu)點。Cu拋光液系列具有理想的硅和二氧化硅去除速率和選擇比。涵蓋TSV銅/阻擋層Slurry,TSV晶背銅/介質層拋Slurry、TSV晶背硅Slurry、TSV晶背硅/銅Slurry等。具有高去除速率、選擇比可調等優(yōu)點。以及集成電路制造工藝中淺槽隔離的拋光等等。
我司產品優(yōu)點:
1.懸浮性好,不易沉淀,使用方便。
2.顆粒分散均勻,不團聚,軟硬度適中,有效避免拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷缺陷。
3.運用拋光過程中的化學新作用,提高拋光速度,改善拋光表面的質量。
4.分散性好、乳液均一,程度提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率,可以提高拋光精度。
5.無粉塵產生,關注環(huán)保和人體健康安全。
可定制化:我們的拋光液可以根據(jù)客戶需求定制不同的PH、粒徑、濃度、穩(wěn)定離子等。
包裝方式:25KG/桶(也可依客戶需求)
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