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薄膜常見問題

閱讀:317          發(fā)布時間:2017-7-8

薄膜常見問題
1.什么是薄膜內(nèi)應力,生長應力,熱應力?生長應力,熱應力產(chǎn)生的原因?

內(nèi)應力:在無外力的作用下,存在于薄膜的任意斷面上,由斷面的一側(cè)作用于斷面的另一側(cè)的單位面積的力。

熱應力:指在變溫情況下,由于受約束的薄膜的熱脹冷縮效應而引起的薄膜內(nèi)應力

生長應力:是指由于薄膜結構的非平衡性所導致的薄膜內(nèi)應力,也稱本征應力。

2.薄膜生長方式的三種模式:(1)島狀生長模式(2)層狀生長(3)島狀層狀生長

3.薄膜和襯底間的界面形態(tài)

(1)平界面,在這類界面上,物質(zhì)從一種類型突變?yōu)榱硪环N類型,界面兩側(cè)的原子間距為0.1-0.5nm。

(2)形成化合物的界面。在界面兩側(cè)原子間作用力較強時,界面之間將發(fā)生化學反應并生成化合物。

(3)合金的擴散界面。在界面兩側(cè)元素間相互擴散,溶解形成合金的情況下,界面成分將呈現(xiàn)出梯度變化(4)機械咬合面。在界面粗糙程度較大,界面元素并不發(fā)生明顯擴散的情況下,界面兩側(cè)的物質(zhì)以其凹凸不平的表面相互咬合。

4.薄膜厚度的測試方法主要有哪些?

等厚干涉法(FET),等色干涉法(FECO)等角度干涉法(VAMFO)等角反射干涉法(CARIS)橢偏儀法,表面粗糙度儀法,稱重法,石英晶體振蕩器法。舉例:橢偏儀法(利用的是物質(zhì)界面對于不同偏振態(tài)光具有不一樣的反射,折射能力的特性,通過測量出薄膜對于不同偏振光分量的反射系數(shù)之比求出薄膜的厚度。)

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