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VDP-B系列 等離子去膠系統(tǒng)
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深圳市奧坤鑫科技有限公司·更新于2023-08-05 09:09:56·102次訪問
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商家推薦產(chǎn)品

整機結構

前端設備操作單元、前端EFEM單元及等離子處理單元,前端EFEM系統(tǒng)與等離子體處理單元分體式設計

等離子體源

射頻式電感耦合等離子體源或雙頻等離子體源

反應腔室

標準設計為雙反應腔室,可根據(jù)需求定制單反應腔室和多反應腔室結構

機械傳片

單臂或雙臂高精度機械手

Wafer升降

機械式Wafer pin升降結構,Wafer pin采用特定工藝處理

真空泵

干式真空泵,根據(jù)安裝位置及工藝不同,選擇100-600m3/h規(guī)格。如工藝需求,可增加分子泵。

工藝壓力控制

自動調(diào)壓蝶閥

真空檢測

管道真空計、反應腔室全量程真空計、工藝真空計

工藝氣體種類

標準配置ArN2、O2,可增加CF4及其他工藝氣體

氣體流量控制

質(zhì)量流量控制器(MFC

反應腔室溫度范圍

50 - 280

控制系統(tǒng)

基于工業(yè)電腦設計開發(fā)的人機交互系統(tǒng),系統(tǒng)設計人性化、操作簡單


深圳市奧坤鑫科技有限公司于2009年成立,是專注于等離子體表面處理設備的高科技技術企業(yè)。2010年成立昆山公司,立足華東,成立OKsun在長三角的銷售和代加工中心。2010年10月和其他科研機構合作在蘇州成立等離子體科技與應用研發(fā)中心,與江蘇多所大學合作,就等離子體科技做深入科研及工業(yè)應用研究,成為擁有獨立自主等離子體研發(fā)能力的優(yōu)秀企業(yè)。OKsun品牌目前已經(jīng)擁有中頻、射頻等多款等離子處理機型,性能優(yōu)良,性價比;處理方式有水平、垂直、卷式RTR、轉(zhuǎn)鼓等真空等離子處理設備;另外還具有常壓(大氣)噴射式、大氣準輝光式、隧道式、水平線等多種常壓等離子處理設備。OKsun品牌等離子體表面處理設備廣泛應用于PCB制造、電子電路、電子電器、汽車制造、半導體制造、包裝、印刷、涂覆、高分子材料、塑膠五金、醫(yī)療器械、滅菌等行業(yè),目前已經(jīng)成為真空等離子體處理設備優(yōu)秀生產(chǎn)企業(yè),產(chǎn)品面涉及極為廣泛。我們倡導技術創(chuàng)新,以滿足客戶的個性化需求為已任,為客戶提供與等離子處理系統(tǒng)相關的技術支持服務,致力于成為的者!
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