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CDS石墨烯復(fù)合材料研磨分散機(jī)
墨水分散機(jī)超高速分散機(jī)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌
  • XMD2000

    型號(hào)
  • 生產(chǎn)廠家

    廠商性質(zhì)
  • 蘇州市

    所在地
太倉(cāng)希德機(jī)械科技有限公司·更新于2021-03-29 10:07:21·281次訪問(wèn)
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CDS石墨烯復(fù)合材料研磨分散機(jī)

CdS/石墨烯納米復(fù)合材料高剪切研磨分散機(jī),硫化鎘石墨烯納米復(fù)合材料高剪切分散設(shè)備,石墨烯納米復(fù)合催化劑研磨分散機(jī),高剪切研磨分散機(jī),高轉(zhuǎn)速研磨分散機(jī),改進(jìn)型研磨分散機(jī),管線式研磨分散機(jī),新型研磨分散機(jī),在線式研磨分散機(jī),真空密閉研磨分散機(jī)

研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

CdS/石墨烯納米復(fù)合材料復(fù)合材料的結(jié)構(gòu)、形貌及其光學(xué)和可見光光催化性能進(jìn)行了表征。結(jié)果表明,高速剪切不僅合成過(guò)程簡(jiǎn)單,而且石墨烯表面所負(fù)載的CdS 納米粒子尺寸小、分散性好,與石墨烯的結(jié)合牢固。由于石墨烯優(yōu)異的吸附性能和對(duì)載流子的高遷移率,CdS/石墨烯納米復(fù)合材料顯示出較高的可見光光催化性和光穩(wěn)定性,30 min 內(nèi)甲基橙的降解率即可達(dá)到90%以上,且3 次重復(fù)實(shí)驗(yàn)過(guò)程中光催化效果接近。

石墨烯是一種新型的二維碳納米材料, 其能隙為零,具有超大的比表面積(2 630 m2?g-1)、良好的化學(xué)穩(wěn)定性以及在室溫下超高的載流子遷移率(2×105cm2?V-1?s-1)。研究表明,將CdS 與石墨烯復(fù)合,利用石墨烯規(guī)整的二維平面結(jié)構(gòu)作為其載體, 一方面可以提高CdS 的分散程度,另一方面可加快光生電荷遷移的速率, 提高復(fù)合材料的催化活性和光穩(wěn)定性。另外,大量石墨烯包裹在CdS 納米顆粒表面,呈現(xiàn)出黑色, 可以提高復(fù)合材料對(duì)可見光的吸收能力。然而,目前有關(guān)CdS/石墨烯復(fù)合材料的研究還很鮮見,常用的制備方法主要有一鍋法、水熱-溶劑熱法、微波輔助合成等,但這些方法操作復(fù)雜,得到的復(fù)合材料中CdS 納米粒子的顆粒尺寸大、粒徑分布寬,對(duì)復(fù)合材料的光催化性能有不利影響。

CdS 納米粒子與石墨烯復(fù)合后,光催化性能明顯改善,在0.5 h 內(nèi)甲基橙的降解率即可達(dá)到90%以上,光催化性能的提高一方面是由于石墨烯優(yōu)異的電子傳導(dǎo)性能, 有效降低了光生電子和空穴的復(fù)合, 另一方面歸因于石墨烯的比表面積和優(yōu)異的吸附性能。同時(shí),超聲化學(xué)法使得CdS 納米粒子在石墨烯片層表面牢固結(jié)合, 從而促進(jìn)了光生電荷的傳遞,提高了載流子的分離效率。此外,由于石墨烯共軛π 鍵分子的雜化作用,促進(jìn)了光生空穴的遷移,從而有效抑制了CdS 的光腐蝕。

研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號(hào)表供參考:

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

CDS石墨烯復(fù)合材料研磨分散機(jī)

太倉(cāng)希德機(jī)械科技有限公司坐落在享有“德企之鄉(xiāng)”之稱的太倉(cāng),公司成立伊始便與眾多德資企業(yè)有技術(shù)方面的交流合作,通過(guò)結(jié)合德國(guó)*技術(shù)和科學(xué)管理模式,形成了完整的研發(fā),組裝,檢測(cè),及營(yíng)銷體系。著力打磨混合領(lǐng)域*產(chǎn)品,為客戶提供性價(jià)比高的流體設(shè)備和成套工藝技術(shù)解決方案,包括研磨、乳化、分散、均質(zhì)、攪拌、混合、干燥、冷卻、燒結(jié)、熔融等工藝,提供工業(yè)生產(chǎn)中真空乳化機(jī)成套設(shè)備、粉體自動(dòng)化配料系統(tǒng)、交鑰匙工程大成套設(shè)備、多功能成套生產(chǎn)系統(tǒng)工藝過(guò)程監(jiān)測(cè)、DCS 控制技術(shù)等。

公司產(chǎn)品已廣泛應(yīng)用于食品工業(yè)、生物醫(yī)藥、日常護(hù)理品、納米材料、涂料油墨、石油化工、印染助劑、造紙工業(yè)、農(nóng)藥化肥、塑料橡膠、電力電子,精細(xì)化工、等行業(yè)。在新型高分子材料化工材料、精細(xì)化工,如石墨烯,瀝青,新型鋰電池,化妝品,制藥應(yīng)用尤為顯著及廣泛。

公司位于風(fēng)景優(yōu)美的千年古鎮(zhèn)沙溪鎮(zhèn),交通位置*,公司處于G15沈海高速沙溪出口,距離滬通高鐵太倉(cāng)站10公里,距離上海虹橋樞紐(虹橋機(jī)場(chǎng)、高鐵站)1小時(shí)車程,距離太倉(cāng)港15公里。

“行有矩,為有道,事可成”是希德人給世界的承諾,服務(wù)萬(wàn)千用戶,不忘初心,勇往直前。

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  • 使用方法說(shuō)明書、售后服務(wù)
  • 其他
以上可多選,勾選其他,可自行輸入要求

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